CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產的單溫區CVD管式爐系統是利用管式爐加熱，把構成固態沉積物的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內，在爐管內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態沉積物的技術。

1200℃單溫區轉動管式爐（管徑25mm）,又稱為旋轉式管式真空氣氛爐、旋轉式管式氣氛爐等，微型化設計，特別適用于小批量樣品的使用，空間占用少，是高校、科研院所、工礦企業做電池正負極材料燒結、催化劑氫氣還原、粉體和顆粒料翻轉燒結的理想產品。 RSK2-2.5-12DZ轉動管式爐設計溫度1200℃，石英爐管、中間粗兩端細，內置物料撥齒方便翻動物料。

1200℃三溫區轉動管式爐,又稱為旋轉式管式真空氣氛爐、旋轉式管式氣氛爐等，是電池正負極材料燒結、催化劑氫氣還原、粉體和顆粒料翻轉燒結的理想產品；RSK2-12-12DZT三溫區轉動管式爐爐管采用石英管，中間粗兩端細的結構，規格φ120*2000mm（中間φ200*900mm），三溫區獨立控制設計，配置三組獨立智能程控系統；電動無級變速轉動控制，轉速可調；配置電動液壓升降系統

RSK2-6-15DZD雙溫區轉管式真空氣氛管式爐采用一體化設計，開啟式爐體，陶瓷纖維爐膛，硅碳棒加熱；爐管采用剛玉爐管；電動轉動，速度可調；獨立雙溫區設計，獨立控溫

RSK2-12DZ單溫區轉管式真空氣氛管式爐采用一體化設計，開啟式爐體，陶瓷纖維爐膛，合金加熱絲；爐管采用石英玻璃，爐管采用中間粗兩端細的設計，內置攪拌隔斷；電動轉動，速度可調；升降式爐體設計方便進出料；